| 影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题 |
|
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
| 中文摘要: |
| 7近几年来，镀膜玻璃在建筑行业以及装饰行业已经得到了广泛的应用。而磁控溅射镀膜因其具有高速、低温、低损伤等优点，已经成为真空镀膜技术的主要方式。适用于建筑玻璃镀膜的磁控溅射靶，就其形式有两种：平面靶和同轴圆柱形靶。本文就影响同轴圆柱型磁控溅射靶的溅射性能方面做以下探讨。1磁控溅射原理图1说明如下：电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氢原子发生碰撞，电离出Ar“并产生电子。电子飞向基片，Ar“在电场作用下加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉… |
| 英文摘要: |
|
| 宋晓文 |
| 长城计量测试技术研究所!北京市，100095 |
| 中文关键词: 同轴磁控溅射 镀膜 建筑玻璃 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| DOI： |
| 引用本文：宋晓文.影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题[J].计测技术,1998,(6):47~48. |
| 关闭 |
|
|
|
