| 光电显微镜中隔圈设计的公差控制 |
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| 修订日期：2001-02-05 |
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| 中文摘要: |
| 为了提高光电显微镜的瞄准精度、必须同时提高光学、机械两方面的设计水平，其中隔圈公差控制是保证光电显微镜精度的关键。本文详细地分析了隔圈的标注方法。 |
| 英文摘要: |
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| 张家远 |
| 中国航空长城计量测试技术研究所 北京市1066信箱开发一部，100095 |
| 中文关键词: 光电显微镜 隔圈 公差控制 瞄准精度 标注方法 设计方法 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| DOI： |
| 引用本文：张家远.光电显微镜中隔圈设计的公差控制[J].计测技术,2001,(5):41~42. |
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